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​氮化鋁基板

氮化鋁基板是高功率電子與先進半導體應用的首選陶瓷基板材料。其最大優勢在於兼具極高導熱係數與優異電氣絕緣性,在同類陶瓷材料中性能表現突出,特別適合需要快速散熱的高密度功率模組與 LED 封裝應用。

主要特性:

  • 高導熱係數(170~ W/m·K),遠優於氧化鋁

  • 優異電氣絕緣性(高介電強度)

  • 熱膨脹係數(CTE)與矽(Si)及砷化鎵(GaAs)接近,減少熱應力

  • 低介電常數與低介電損耗

氮化鋁.JPG
AlN特性表.png
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